PG Instruments T80 i T80+ – dwuwiązkowe spektrofotometry UV-VIS
Seria T80 to wysokiej jakości spektrofotometry dwuwiązkowe dostępne ze stałą (2 nm) lub zmienną (0,5, 1, 2, 5 nm) szerokością szczeliny.
Więcej informacjiDowiedz się więcej na temat tego produktu, skontaktuj się z nami:
Specjalistyczny spektrofotometr dwuwiązkowy z możliwością regulacji szerokości szczeliny spektralnej. Możliwość dokonywania analiz w następujących trybach: pomiar fotometryczny, skanowanie spektrum, pomiar kinetyki, pomiar ilościowy i analiza DNA/białka. Podłączony do PC daje wiele dodatkowych aplikacji; dostęp do baz danych, trójwymiarowe analizy spektrum, protokół GLP, szybkie analizy pozostałości pestycydów i inne analizy spośród puli zastosowań w ochronie środowiska.
Zastosowanie:
- Żywność,
- Leki,
- Produkty rolnicze,
- Środowisko,
- Inne organiczne i biochemiczne aplikacje.
Zalety:
- Stała (2 nm) lub zmienna (0,5, 1, 2, 5 nm) szerokość pasma widmowego;
- Dostarczany z 8-komorowym automatycznym wymiennikiem i wstępnie ustawionymi lampami wolframowymi i deuterowymi;
- Siatka holograficzna 1200 linii/mm;
- Wysoki stopień automatyzacji;
- Wiele opcjonalnych akcesoriów zwiększających wydajność aparatu;
- Pomiar fotometryczny, skanowanie spektrum, pomiar kinetyki, pomiar ilościowy i analiza DNA/białka;
- Prosta konserwacja.
Specyfikacja:
| Typ urządzenia | T80 | T80+ |
| Szerokość szczeliny | 2 nm (stała) | Regulowana: 0.5, 1, 2, 5 nm |
| Tryb pracy | Samodzielny i z PC | Samodzielny i z PC |
| Software | MPU Software Platform/Spec UV software workstation | MPU Software Platform/Spec UV software Workstation |
| Zakres długości fal | 190-1100 nm | 190-1100 nm |
| Dokładność długości fal | ±0.3 nm (automatyczna korekcja) | ±0.3 nm (automatyczna korekcja) |
| Powtarzalność długości fal | 0,2 nm | 0,2 nm |
| Światło rozproszone | <0,12%T (220 nm, Nal;340nm, NaNO2) | <0,12%T (220 nm, Nal;340nm, NaNO2) |
| Tryb fotometryczny | Transmitancja, absorbancja, energia | Transmitancja, absorbancja, energia |
| Zakres fotometryczny | -0,3 – 3 Abs | -0,3 – 3 Abs |
| Dokładność fotometryczna | ±0,002Abs(0-0.5A) ±0,004Abs(0,5-1A) ±0,3%T(0-100%T) | ±0,002Abs(0-0.5A) ±0,004Abs(0,5-1A) ±0,3%T(0-100%T) |
| Powtarzalność fotometryczna | 0,001Abs(0-0,5A) 0,002Abs(0,5-1A) 0,15%T(0-100%T) | 0,001Abs(0-0,5A) 0,002Abs(0,5-1A) 0,15%T(0-100%T) |
| Płaskość linii bazowej | ±0,0015Abs(190-1100nm) | ±0,0015Abs(190-1100nm) |
| Stabilność linii bazowej | 0,0008Abs/h(500nm, 0Abs 2 nm szerokość szczeliny po 2 godzinnym rozgrzaniu systemu) | 0,0008Abs/h(500nm, 0Abs 2 nm szerokość szczeliny po 2 godzinnym rozgrzaniu systemu) |
| Szum fotometryczny | ±0,001Abs (500nm, 0Abs, 2nm szczelina spektralna) | ±0,001Abs(500nm, 0Abs, 2nm szczelina spektralna) |
